的诞生和信息时代的开启。晶体管可以说是20世纪最重要的发明，到今天已经两年多了。

从实用的角度来看，点接触式晶体管的产量非常有限，不能算是商业上的成功；周启仁制造出来的这个结式晶体管却使得现代半导体工艺成为可能，为许多半导体公司的兴起做出了重大贡献。

半导体科技的发展是材料、物理和器件这三者相互促进、相辅相成的结果：为了制作性能好的器件，需要了解材料的物理特性以及相应的物理过程和规律，而这又需要可靠的仪器来测量质量足够好的材料。

半导体科学研究始于19世纪初叶，那时候研究的都是自然界里的材料(矿石晶体)。

1833年，法拉第在研究硫化银的电导时，第一次观察到电阻的负温度系数。

1873年，史密斯在体材料硒中发现光电导效应。

1874年，布劳恩在一些金属硫化物表面发现了整流效应。

1876年，亚当斯和戴伊在硒材料里发现了光伏效应。

1879年，霍尔发现了现在所谓的“霍尔效应”，并在某些材料中发现了带有正电荷的载流子。

也就是说，在晶体管发明之前70年，人们已经发现了半导体材料的几大基本特性：电阻率的负温度系数和光电导效应(都是体材料的效应)，光伏效应和整流效应(某种半导体与其他材料之间的接触效应)，存在正电荷的载流子(这就是半导体中的“空穴”)。