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第140章 小芯粒+超导基座

先把7纳米搞定,再借助EUV光刻机搞定5纳米,西方的领先优势就彻底丧失了,他们实际就领先了两三代而已。”

“你说的没错叶总,只要搞定了7纳米,我们跟西方的技术代差,就缩小到一代了。”张昊京点头。

“对了何总,请问EDA工具这块,你们还要多少时间搞定?”

叶云明看向‘芯片女神’何庭玉的屏幕,询问道。

“没有太大的问题了,不管什么类型的芯粒,我们都能拿出成熟稳定的架构,但我们还在做深度优化,想拿出性能功耗表现最完美的版本,为提高效率,我们使用了AI工具进行优化。但如果想马上就用的话,我们还是能拿出比较好的公版架构,保证不会差于国外主流架构。”

何庭玉汇报道。

“那再给你们半个月,先拿出几款‘准完美’的且足够稳定的芯粒架构出来,确保没有致命缺陷,你们能不能做到?”

叶云明问。

“可以,没问题。”

何庭玉自信的道:“半个月时间,对我们够用了。”

随后。

负责芯片制造工艺摸索的‘芯片吕布’梁元松表示:他带人把部分的芯粒制造环节,放到太空环境进行后,由于省去了很多工艺步骤,良率也能提高。且他已经带人造出了7纳米的芯粒,良率近30%,但想要提高到90%以上,必须在光刻机方面补足短板,把足够好用的国产DUV光刻机造出来。

负责操作系统与软件适配的胡胜武,则表示他带着6000多名的软件工程师日夜鏖战,消灭了无数BUG,采用了一切手段提升流畅度,应用软件也开发了数百款,预计再过一个月时间,‘鸿梦·星河’系统,就能重磅问世,保证不会拖大家的后腿。

听完这些汇报。

叶云明点点头,道:“也就是说,唯一还没有攻克的最难环节,是技术还不太成熟的国产光刻机?”

“是这样的。”

东海微电子公司的老板贺光,不得不发声解释:“叶总,我们已经生产出合格的DUV光刻机了,实验室内的表现非常完美,但实际生产过程中,又遇到了这样那样的问题。但只要给我们一点时间,继续调试跟改进,绝不会掉链子的,我公司上千名的研发人员,都在没日没夜的加班,没人比他们更想洗刷光刻机领域的耻辱。”

“我没有太多的时间给你。”

叶云明摇摇头,对他道:“这样,我明天就去你公司,亲自参与问题的解决,争取在半个月内,拿出不会出任何问题的DUV光刻机。”

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